초미세 가공
 | NANO-X의 고유 NEMS 기술을 통하여 정밀한 핀 형성을 위하여 탄성층 상에 홈을 형성하고 핀을 동시에 성장시키기 때문에 높은 수준의 핀간 높이 및 정렬 오차를 구현할 수 있습니다. |
탄성 레이어
 | NANO-X만의 독자적인 레시피를 통하여 전세계 유일하게 완전 수직형 핀임에도 불구하고 각각의 핀별로 탄성 구동이 가능한 탄성층을 수um 두께의 수십개의 레이어로 구현하여 개별 핀의 Overdrive를 구현하였습니다. |
표면처리
 | NANO-X는 검사 대상의 소자가 프로브카드와 접촉할 때 Particle에 오염되지 않도록 독자적인 표면처리 기술을 통하여 프로브카드 표면에서 떨어지는 Particles을 최소화하여 검사시의 높은 안정성을 보장합니다. |
전극 형성
 | NANO-X는 수지 재질의 탄성층 상에서도 Buckling 및 단락이 발생하지 않도록 하는 고유의 전극 형성 기술을 통하여 탄성 레이어상에서도 멀티 채널을 구현하면서도 수천개의 채널별로 전극을 외부 기기에 연결할 수 있는 높은 확장성을 가집니다. |
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